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青島紡檢EDI設(shè)備

一、 EDI超純水設(shè)備概述 30多年來, 混床離子交換技術(shù) 一直作為一種 去離子的工業(yè)標(biāo)準 。由于其需要周期性的再生且再生工程中使用大量的化學(xué)藥品(酸堿)和純水,因此已很難滿足

產(chǎn)品介紹

一、 EDI超純水設(shè)備概述
    30多年來,混床離子交換技術(shù)一直作為一種去離子的工業(yè)標(biāo)準。由于其需要周期性的再生且再生工程中使用大量的化學(xué)藥品(酸堿)和純水,因此已很難滿足于無酸的超純水系統(tǒng)。EDI超純水系統(tǒng)的出現(xiàn)解決了這一系列水處理難題。
 
二、 EDI的工作原理                                   
    EDI(Electrodeionization)是利用離子交換樹脂來去除水中的離子。在EDI設(shè)備中,進水中的各種離子通過樹脂層交換后被脫除,水得到了純化。此時是利用離子交換原理脫除水中的離子。由于膜對兩邊加有電壓,水分被電解為氫氧根和氫離子去再生樹脂,同時,被氫離子和氫氧根離子交換下的離子在電流的作用下,被遷移至濃水室而排放,從而實現(xiàn)連續(xù)再生連續(xù)使用的目的。水在EDI模塊中的純化過程如下:
1) 進水分布EDI模塊中各室。
2) 在直流電作用下各種離子,向各自相應(yīng)電極遷移。
3) 與混床一樣,水中的各種離子被離子交換樹脂所交換,然后被交換的離子通過各自相應(yīng)的離子交換膜遷移到濃水室中。淡水室中的水流出EDI模塊(只有離子可通過離子交換膜,而水不能通過)而成淡水。
4) 濃水室中的濃水循環(huán)。為提高和維持濃水室的電導(dǎo),大部分濃水進行循環(huán)。
5) 循環(huán)的濃水需少部分排放,由進水補充。此部分排放濃水可返回至前級RO裝置,重復(fù)使用。
6) 水分子在電壓作用下被電離為氫離子和氫氧根離子,通過各自相應(yīng)的離子交換膜遷移到樹脂層,連續(xù)再生樹脂。
 
三、EDI高純水制取設(shè)備與傳統(tǒng)混床技術(shù)相比的優(yōu)點
  連續(xù)運行,產(chǎn)品水水質(zhì)穩(wěn)定;無許用酸堿再生;不會因再生而停機;節(jié)省了反洗和清洗用水;產(chǎn)水率高達95%;無再生污水,無須污水處理設(shè)施;無須酸堿儲備和稀釋設(shè)備;占地面積??;使用安全,避免工人接觸酸堿。投資僅為離子交換的30%。運行成本僅為離子交換的65%。
                      
1、無化學(xué)污染。
2、可連續(xù)再生;
3、啟動/操作方便;
4、模塊更換方便;
5、產(chǎn)水純度更高;
6、回收率更高;
7、占地面積更小;
8、節(jié)約成本。
 

四、EDI超純水設(shè)備的應(yīng)用領(lǐng)域
1. 半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路;
2. 超純材料和超純化學(xué)試劑;
3. 實驗室和中試車間;
4. 汽車、家電表面拋光處理;
5. 其他高科技精微產(chǎn)品。
五、EDI模塊的進水要求及性能參數(shù)
 
進水總鹽量(CaCO3計) <25ppm或50μs/cm TOC <0.5ppm
PH值 5.0~9.0 余氯 <0.05ppm
硬度(CaCO3計) <2.0ppm Fe、Mn、H2S <0.01ppm
可溶硅 <0.5ppm 工作溫度 5~40℃
工作壓力 1.0~2.0bar 工作壓差 0.4~1.0bar
水利用率 >95% 產(chǎn)水水質(zhì) >8.0MΩ.cm
   

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